常州进口环保设备清关代理

常州进口环保设备清关代理

万享进口物流，是基于1998年以来 中国**采购业务 快速升温的细分服务，其含括到国际采购商务、进口海运、进口申报、进口仓储配送等多个物流服务环节。尤其是进口申报环节，涉及到贸易政策、口岸监管、资格单证、企业财税、后续核销等多项严格的作业要求；再者各城市口岸的进口申报流程存在一定的偏差，而申报过程又存在部分手工作业性，这些客观因素，决定了“不同性质的企业、不同货品、不同口岸、不同申报方式”的进口申报多样性和进口物流服务弹性。

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代理旧设备报关|新旧设备报关案例|新旧设备O证办理|

万享供应链管理（上海）有限公司

业务联络人：王生；

电话：021-61762699；；

微信：；QQ：253231368；

进口新旧机械产品流程：
1、旧机械中检；
2、海运；
3、换单；
4、报关
5、旧机械一般报关过程中会遇审价；
6、缴税；
7、放行；

新旧机械进口报关单证：
1. 进口港所在地商检局机电办，申请进口旧机电商检备案 

2. 同时办理旧机电进口许可证，申请“O”证 
3. 中国香港中检公司做检验——中检检验出合格证，办理《进口旧机电产品装运前检验证书》 
4. 到国内口岸商检局换正本备案书与《检验检疫合格证书》 
5. 办理进口提前商检备案，《进口旧机电产品装运前预检验备案书》与检验检疫申请

6. 进口申报的全套单证（国际采购合同，装箱单，invoice等）

装运前检验申请资料包括：
1，AQSIQ或CIQ签发的进口旧机电装运前检验备案书及进口旧机电产品清单；
2，进口旧机电产品装运前检验通知单；
3，进口旧机电产品装运前检验申请书；
4，进口旧机电产品使用/存放状态清单；

5，进口旧机电产品工作原理和工艺流程；
6，进口旧机电产品存放平面图；

万享旧机械进口清关/二手机械进口清关**者
万享国际国内进口清关、进口仓储、进口物流*者！
万享供应链管理（上海）有限公司
联系人：王生
手机：；座机：021-61762699
微信：；Q;
地址：上海市浦东新区张杨路3611号金桥国际商务广场6座906单元

二手机械进口清关资料

1）进口旧机电产品备案申请书

2）申请人、收货人、发货人营业执照（复印件）

3）装运前预检验申请书

4）拟进口旧机电产品清单（按标准格式填写，一式两份，要求以电脑打制。）

5）进口旧机电产品描述（按网上标准格式填写）

6）其它材料（8年前制造的旧机电产品原则上均需提供产品彩色图片/照片；制造年限久的设备如在发运前已经维修整理，申请人可提供相关记录与证明）；进口二手大型成套设备、流水线需提供设备配置图、工艺流程图等资料.（这个十分重要，没有这些资料，大型设备的备案就无法通过！！）。

7）进口用于销售、租赁或者维修等用途且国家实施强制性产品认证制度、进口质量许可管理以及有其他规定要求的旧机电产品的，备案申请人申请备案时必须提供相应的证明文件。

8）合同或协议

9）进口旧机电产品拟备案工作联系单（需办理机电证时提供）

相关进口物流业务操作，进口货主非常需要有专业、有经验、有规模之服务供应商。进口货主选择大型的老牌的进口清关物流代理公司，其一可以获得进口代理服务的*性、时效性，其二可以简化企业人力、节省进口费用。上海国内国际物流，国内9点一网300人服务平台，一直密切关注进口物流市场的动向。

世界领晶圆厂的EUV计划

在2016年，三星和台积电都开始进行10nm工艺的升级，我们称之为“制程工艺”，节距在10nm节点时已经变得没那么严格。两个厂商都用光刻技术生产，也是目前密集的晶圆制造方法。对于台积电来说，10nm节点算是一个短期的打算，主要集中在手机处理器上。对于三星10nm，这可能将会是一个更**命的节点，原因如下。

在2017年，我们期待着台积电7nm工艺的升级和英特尔能够加速10nm节点进程。据目前报道，预计台积电7nm工艺和10nm工艺的间距相同。有一些证据表明，英特尔的10nm工艺可能比台积电7nm工艺拥有更小的轨道间距，这就使得英特尔10nm工艺比台积电的7nm工艺更密集，公司所称作的节点名称似乎对进展进程没啥意义。台积电的7nm和英特尔的10nm工艺都将会采用光刻技术生产，虽然台积电使用的是7nm EUV测试工具。

预计，2018年格罗方德和三星将会制造7nm工艺。格罗方德的初工艺将采用光刻技术生产，但当EUV时机成熟时，将转向EUV（事实上，他们正在使用EUV来加速工艺的开发），三星已经对外宣称，将使用EUV来应对7nm工艺。三星这次对EUV的注，也使得他们能否在2018年发布出来，增加了不确定因素，如此看来，三星10nm工艺节点将会拥有更**命。

在2019年，台积电可能将会升级到5nm制程工艺，我们期待这个工艺将使用EUV技术。预计在2020年，英特尔将采用7nm工艺。如果EUV能够成熟，英特尔也会采用此项技术。

SPIE对于EUV的观测

在2014年，台积电对EUV进行了非常悲观的评估。在2015年和2016年，会议上的EUV氛围则变得更有希望，包括台积电已经有了更多乐观的评估。2017年，此次会议对EUV的评估则变为了乐观，虽然台积电今年并没有做出评价，目前状态似乎不是很乐观。

另一个发现则非常有趣，在过去，EUV被视为一种比光学的成本要低的技术。现在看来，我们需要EUV更多是在合理的经济层面上。随着光罩需求量的不断增加，成本也水涨船高。同时覆盖物也将会成为Fab的灾难。覆盖物需要把光罩层有秩序的精确地放置在彼此的身上。而随着mask的增加，覆盖层也就会成为噩梦。EUV的前景就是减少mask，实现更好的保真度和更一致的电产率。

英特尔和三星

据英特尔报道，在2015年有7套EUV系统，现在有14套，其中分别为8套NXE3300B系统和6套NXE3350B系统。从更多的行业数据来看，NXE3350B预计将类似于NXE3400。三星也注意到了EUV的优势是更高的分辨率和更少的mask，EUV的7nm工艺就比光学10nm需要更少的mask。

在ASML研讨会上，英特尔指出，ASML达到210瓦特和工作效率大于125wph，它需要在高功率下实现控制。“源”功率较低，但是NXE3400系统有望与其缩小差距。三星对此也有类似的消息，值得注意的是“源”功率接近HVM目标，NXE3350B达到稳定的130瓦特。

三星和英特尔都讨论了系统的可用性，液滴发生器和采集器寿命是关注焦点。液滴发生器寿命比去年提高了3－5倍，采集器寿命提高了1．5倍，但还是需要更多的改进。现在总体系统的可用性为70％，具有高变异性。英特尔报告了NXE3350B的可用性大于75％以及更少的额外**长停机事件。三星则认为，NXE3350具有比NXE3300更好的可预测性。

三星和英特尔都表示，在缺陷等级测量中要远远**ASML，并且两家都强调了对薄膜的需求。ASML在2016年初步实现了薄膜概念，ASML和合作者正在这些领域进行努力。英特尔提到，在缺陷的前提下，薄膜大于3500块晶片。现在薄膜存在的大问题是，随着源功率增加到250瓦以上时，需要增加产品并且需要更长时间的新薄膜材料。三星已经能够使用自己内部系统的光化学mask来进行审查，它现在能够用于7nm，英特尔也表示仍然需要光化学mask检查。

据三星报告，mask空白缺陷现在已经达到HVM《5的目标。这算是一个很大的改进，在SEMICON West 2016上，空白缺陷限制了EUV的使用，仅仅能在暗场mask和低开放面积。

按照英特尔说法，光刻胶不会引入到EUV，但更好的随机现象需要匹配到193。三星则表示，抗蚀剂性能对于7nm是可行的，但需要更佳的灵敏度。英特尔提到，ASML在晶片台和光学元件之间引入一个膜，为光刻胶开辟了新材料的选择，因为它能够保护光学元件面授光刻胶外泄的影响。然而并没有更多关于LWR的讨论，虽然LWR是EUV大的谜团。*则表示，在7nm EUV初步阶段的使用将用于过孔，他们对LWR不太敏感，这种改进需要在5nm阶段。

其他意见

会议上有关于EUV有趣的讨论：

EUV技术的迟到如何能给技术更多的成熟时间和行业准备。当EUV将要替换多图案作为单一曝光技术，未来在设备制造厂商将会需要更多的蚀刻和沉积系统的人才，这也会是设备制造商的一大难题。如今，EUV正准备渗透到行业中去，作为一个互补作用的技术，而不是去破坏其余OEM的基础设施。

总结：

根据会议要点，可以乐观的看出，我们将在2018年晚些时候开始在特定水准上看到EUV的制造使用，并能够在2019年进行更广泛的使用。预计2018年三星会大量使用EUV，其次是格罗方德。台积电和英特尔可能将会在2019年和2020年。

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